ダイヤモンドスクライブツール
テクダイヤ独自の工法によるダイヤモンドスクライブツールです。
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ワークに水も熱も与えることなく、ドライなクリーンカットができる工法として、スクライブ技術は、今日の半導体製造プロセスにおいても欠かせない技術の一つです。
長年のダイヤモンド加工の経験を活かし、各種ウェハに対応するスクライブツールを取り揃えています。
スクライブツールセレクション
この表以外にも、ウェハ表面加工(エッチング有無、保護膜の材質他)、またチップサイズ(アスペクト比)など様々な状況により最適なスクライブツールが変わります。
*その他TD-2P、TD-8Pはカスタム仕様でお作りします。
スクライブツール紹介
TD-3YP
SiC、サファイアウェハ用
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TD-3P
半導体ウェハ用(InP他)
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TD-4PB
半導体ウェハ用(Si他)・
(トゥカット)
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TD-420
半導体ウェハ用(GaAs他)・
ガラス用(ヒールカット)
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*角度についてはご指定ください。
カスタム品
TD-2P
半導体ウェハ用
(トゥカット)
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*仕様についてはご相談ください。
TD-8P
スクライブ条件抽出・開発用
(トゥ・ヒールカット)
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*仕様についてはご相談ください。
スクライブカットの特徴
ドライカット
スクライブ中に水を用いないため、水溶性の素材や静電気
他、水が原因によるチップへの悪影響がありません。
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チップ集積率向上
一般的に、スクライブによるV溝の幅は2~5μmであるため、ウェハ当りのチップ集積率が上がり、コストダウンを計画できます。
クラックコントロール
スクライブカットは、スクライブで発生する内部応力を用い、そこから起きるクラックで、チップを希望通りの形状にカットすることです。
このクラックを上手にコントロールするためには、ウェハに最適な刃先形状を選択することが必要です。
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スクライブ ライン形状(TD-2P)
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スクライブカット チップ断面
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レーザーカット チップ断面
関連サイト
ケーススタディページ(ZnOウェハのパーフェクトスクライブの事例)
ケーススタディページ(スクライブカットによるメサ型ストリート基板チップ化の事例)